たぶんダメかと

おとといの３月８日(日)に行われた、第２０回知的財産管理技能検定、第２回ブランド専門業務学科試験、今日９日、解答が発表されました。

自己採点の結果、去年と同じで、一歩及ばず、今年もダメの様です。

まあ、今回の試験の難しさでも、７５％以上は正解なので、自分としては健闘したとは思います。ですが、合格ラインはおそらくきっていますから、おそらく不合格でしょう。

本当かどうか定かではありませんが、昔は、知的財産管理技能検定は採点調整があったらしく、合格ラインをきっていると思っていたら合格していた、ということがあったらしい、とまことしやかに言われていました。現在ではそのような話も全く聞かなくなりましたし、ましてや１級学科試験ですから、このようなことは、おそらくないでしょう、きっと。でも、本当にあったのならば、今回も採点調整してほしいです。そうすれば合格しているかも。

まあ、間違っている問題が明らかに出題ミスで正解扱いになる、という様なことでもおきない限り、不合格だと思います。奇跡でもおきないかな(笑)。

（国内、英文両方の）契約及びライセンスと、税関制度、米国商標法制度、海外（英国）の立体商標事例、あと（日本、海外両方の）意匠法制度が、今回だめでした。

まだまだ私は修行が足りないようです。

ああ、おそらく、また来年再チャレンジでしょう。

個人での勉強も限界の様に思っています。どなたか、１年かけて一緒に勉強しませんか（マジです）。特に、意匠と契約、海外（米国、欧州）の商標法制度事例に強い方、ぜひ教えてください。かわりに、日本と中国の商標法制度はお任せください。

あと、現在急ピッチで今回の問題の分析を行っています。早ければ来週あたりには、「自分勉強用解説」として、このブログに書いていきます。

なお、私は、５問目の出題には、５問目の問題の内容そのものは間違ってはいませんが、出題の仕方について疑問を感じています。

あと、２０問目、３４問目の出題にも同様に少し疑問を感じています。

４３問目、４４問目、４５問目の出題にもかなり疑問をもっています。この３問は（特に４３問目、４５問目は）知的財産管理技能検定史に残る悪問だと私は思います。